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當(dāng)前位置:上海恩迪檢測(cè)控制技術(shù)有限公司>>產(chǎn)品展示
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關(guān)鍵特征:·可選160kV/225kV/320kV/450kV/600kV高功率射線機(jī)·最小焦點(diǎn)可達(dá)0.4mm·支持多種平板探測(cè)器
關(guān)鍵特征:·190kV/225kV/240kV反射型高功率微焦點(diǎn)射線源·JIMA卡空間分辨率測(cè)試可達(dá)2微米·支持多種平板探測(cè)器
關(guān)鍵特征:·可選190kV/225kV/240kV穿透型高分辨率納米焦點(diǎn)射線源·JIMA卡空間分辨率測(cè)試可達(dá)0.5微米·支持多種平板探測(cè)器
關(guān)鍵特征:·多種射線機(jī)可選·定制化機(jī)械系統(tǒng)·支持多種平板探測(cè)器
關(guān)鍵特征:·便攜式平板探測(cè)器·可選便攜式射線機(jī)·支持遠(yuǎn)程控制便攜式DR檢測(cè)系統(tǒng)射線管類型便攜式射線機(jī)/固定式射線機(jī)管電壓便攜式射線機(jī):160kV/200kV/3...
除了X射線衍射系統(tǒng),我們也提供用于SEIFERTorGE-SEIFERT射線衍射系統(tǒng)的各種部件
·用于快速原位檢測(cè)化學(xué)反應(yīng)、物相變化和反應(yīng)層增長(zhǎng)等·在高溫或者特定條件下檢測(cè)物相變化過程德國(guó)SEIFERTAnalyticalX-ray可根據(jù)用戶的應(yīng)用和要求,...
·大檢測(cè)范圍,大角度范圍,高精度檢測(cè)·粉末、織構(gòu)、應(yīng)力和殘余奧氏體分析·可選工件轉(zhuǎn)換裝置和外部預(yù)定位系統(tǒng)·快速實(shí)時(shí)檢測(cè),包括1D和2D檢測(cè)·可選掠入式射束、反射...
單色光掃描系統(tǒng)和固定式多色光勞厄分析系統(tǒng),用于單晶材料、硅圓、晶錠、渦輪葉片和太陽能光板等的定向分析和檢測(cè),可集成到產(chǎn)線和質(zhì)量控制流程
根據(jù)檢測(cè)范圍不同
客戶定制化CT系統(tǒng)
關(guān)鍵特征:·定制化的機(jī)械系統(tǒng)·可達(dá)6MeV加速器射線源·支持多種探測(cè)器·支持定制化軟件模塊恩迪集團(tuán)電話:郵箱:info@sh-nd
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