iPHEMOS-DD倒置微光顯微鏡是一款半導體失效分析系統，通過檢測半導體裝置缺陷引起的微弱的光發射和熱發射來準確定位半導體器件的失效位置。利用其*的倒置型設計，能夠便捷地進行樣品backside觀察與分析，將樣品直接連接到測試機上，再把測試機架裝到設備上方能夠有效減少線纜長度，這使得高頻驅動樣品的分析成為可能，這種直接架裝方式可用于點針偵測12英寸wafer，也可用來偵測封裝好的樣品。
產品結構：
● 同時最多加裝兩臺高靈敏度相機，能夠同時完成光發射和熱發射偵測
● 設備可以加載多種激光
● 鏡頭切換轉塔最多可以加裝10種不同鏡頭
產品配置（可選配）
● 激光掃描系統
● 高靈敏度近紅外相機進行光發射分析
（根據客戶樣品特點對不同波長范圍的光發射探測可以選配不同型號相機，InGaAs, C-CCD, Si-CCD, Emmi-X）
● 高靈敏度中紅外Thermal相機進行熱分析
● 激光誘導阻值變化分析（OBIRCH）
● D-lock in
● Thermal Lock in
● EOP/EOFM
● Tilt Stage
● Nano Lens 進行高分辨率、高靈敏度分析
● Navigation功能
● 連接測試機進行動態分析
● Laser Marker
