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納米壓印芯片光刻機(jī)，由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)不僅適合單晶硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片...
微納米芯片光刻系統(tǒng)，本機(jī)統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位，對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。
紫外納米芯片光刻系統(tǒng)，本機(jī)統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位，對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。
納米芯片壓刻機(jī)，本機(jī)統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位，對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。
納米壓印光刻機(jī)，本機(jī)統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位，對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。
單面光刻機(jī)系統(tǒng)，本系統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位，對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。
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