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關(guān)于日揚(yáng)WEH®涂裝工藝介紹

時(shí)間:2023/12/20閱讀:2582
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WEH ®涂裝工藝介紹

“WEH ®涂裝工藝"是一種納米涂層工藝,成功應(yīng)用于薄膜沉積和干刻蝕制程,是一種在真空環(huán)境下進(jìn)行的高科技表面處理技術(shù)。該技術(shù)可以在材料表面上形成一層均勻、致密、具有特殊功能的薄膜,減少工藝殘留物的粘附,提高材料的抗腐蝕性和使用壽命。

在電子領(lǐng)域,WEH ®真空涂層技術(shù)可以用于電子元器件、顯示器、半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池等產(chǎn)品的制造過(guò)程中,應(yīng)用范圍非常廣泛

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WEH ®真空涂層介紹/ABOUT WEH®

常用于前級(jí)管道以減少副產(chǎn)品粘附的3M3700 涂層已于2021年停止生產(chǎn)。與此同時(shí),WEH®涂層經(jīng)過(guò)層層檢驗(yàn)進(jìn)入市場(chǎng),它有許多優(yōu)異的特性,如高硬度、高接觸角、抗腐蝕等。目前WEH ® 已成功應(yīng)用于某半導(dǎo)體廠商的排氣系統(tǒng),如廠區(qū)的氣體管線、干泵和渦輪泵等,它有效幫助企業(yè)緩解了真空管道和設(shè)備內(nèi)的粉塵顆粒堵塞問(wèn)題。

1真空零件涂層的分類





_

陶瓷類

環(huán)氧類

物性

薄,硬

厚,軟

顏色

透明無(wú)色

黑色、綠色、白色

產(chǎn)品例

WEH ®, 3M 3700

Epoxy-base Teflon


2

WEH ®涂層的性質(zhì)


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經(jīng)過(guò)日揚(yáng)科技一系列的產(chǎn)品測(cè)試和市場(chǎng)實(shí)例檢驗(yàn),WEH ®涂層較之其他的同類產(chǎn)品,有著良好的疏水性、耐溫性、接著性抗腐蝕性,同時(shí),其高硬度低粗糙度也符合真空零件納米涂層的優(yōu)異特性。在薄膜沉積系統(tǒng)和干刻蝕制程中,該涂層表現(xiàn)效果良好。

3

WEH ®涂層的作用


WEH ®涂層:有效延長(zhǎng)使用壽命和零件保護(hù)


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WEH ®涂層有效保護(hù)了部分制程特別是例如AI-Pad、ALD和MOCVD制程中所需的設(shè)備與管道,在真空環(huán)境下的的薄膜沉積與干刻蝕系統(tǒng)中,設(shè)備與零件有著非常高的精度和技術(shù)要求,這意味著它們的維護(hù)周期對(duì)產(chǎn)線稼動(dòng)率和生產(chǎn)效益的影響非常大。


4

WEH ®涂層的COA認(rèn)證


WEH ®認(rèn)證(Certified of Analysis,COA)

項(xiàng)目

規(guī)格

疏水性

油墨在表面無(wú)法書(shū)寫(xiě)

厚度

0.5~ 5um

粗糙度

≦ 1 um

斷裂強(qiáng)度

≦ 6.0×10-9 mbar?/sec




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現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試 Field Test at 5B


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—進(jìn)行涂裝WEH ® 處理的金屬部件—


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從圖中可以看出,在金屬內(nèi)壁進(jìn)行WEH ®涂裝處理后, 使得背壓大幅降低,長(zhǎng)時(shí)間不衰減。


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進(jìn)行中的測(cè)試案例 5


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劃格測(cè)試Cross-Cut Test


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劃格測(cè)試采用的是3M 600 Scotch type,在切口邊緣分離出小的WEH ®薄片,不大于 5% 的橫切區(qū)域,表示符合4B ~ 5B的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)。


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接觸角測(cè)試Contact Angle Test


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WEH ®具有106.15度的接觸角,表示材料具有疏水性,不易產(chǎn)生殘留物粘附。


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腐蝕性測(cè)試 Corrosion Test


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腐蝕測(cè)試步驟:

1.滴上數(shù)滴鹽酸 HCl 在測(cè)試樣品表面。

2.等待24 hr,測(cè)量腐蝕面積。

3.測(cè)試結(jié)果(腐蝕面積):

WEH ® < 3M3700 < Non Coating


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表面粗糙度測(cè)試Roughness Variation


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表面粗糙度對(duì)沉積的影響非常大,隨時(shí)間的推移,零件的內(nèi)表面容易造成殘留物沉積,進(jìn)而降低氣體流速,影響反應(yīng)速率。WEH ®涂層經(jīng)試驗(yàn)測(cè)出對(duì)降低材料表面粗糙度有很大作用。


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硬度測(cè)試Hardness Test


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1.硬度測(cè)試根據(jù)ASTM D3363-22通過(guò)鉛筆測(cè)試進(jìn)行

2.環(huán)境溫度:(23 +/- 2)℃

3.濕度: (50 +/- 5)%

image.png



除去以上檢驗(yàn)之外,WEH ®還通過(guò)了沉積物對(duì)比、電子能譜分析和等離子蝕刻測(cè)試,其蝕刻速率是氧化物的1/50,蝕刻速率小于0.5 nm/min,這意味著WEH®可以保護(hù)部件免受離子轟擊的損壞。


好的證明是市場(chǎng)的證明,目前WEH ® 已成功應(yīng)用于某半導(dǎo)體廠商的排氣系統(tǒng),它有效地緩解了電子器件制程中的設(shè)備粉塵顆粒阻塞問(wèn)題。其優(yōu)異的特性幫助客戶拉長(zhǎng)了設(shè)備維護(hù)周期,節(jié)省了大量維護(hù)成本。

日揚(yáng)一直秉承著“成為客戶有價(jià)值的伙伴"的企業(yè)使命,幫助客戶發(fā)現(xiàn)問(wèn)題、分析問(wèn)題、解決問(wèn)題。如果您需要更多關(guān)于WEH®的產(chǎn)品咨詢,請(qǐng)聯(lián)系我們。1 3 5 0 2 8 6 1 4 1 5



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