桌面型原子層沉積系統由哈佛大學納米科學中心薄膜沉積工藝研究科學家Dr. Philippe de Rouffignac設計，基于多年納米薄膜制備的豐富經驗以及對科研工作者切實研究需要的了解，推出了此桌面型、高性能的原子層沉積系統。設備自2015年在CNS安裝以來，到目前為止已有超過上千人次使用，人性化的設計、操作便捷。
設備資料
主要特點：
1. 腔室專為R&D設計和優化，樣品尺寸達直徑4’’,可升級至6''；
2. 反應腔溫度可控范圍：RT-350℃；
3. 前驅體源溫度可控范圍：RT-150℃；
4. 腔室處理壓力可控范圍：0.1-1.5 torr；
5. 源擴展多達5個；
6. 快速循環處理功能；
7. 氣路優化設計、腔體小型化設計；
8. 一分鐘多達6-10；
9. 成熟的薄膜Recipes內置程序；
10. 觸屏PLC控制；
11. 可配套手套箱使用；
12. 可配備臭氧發生器；
可處理材料：
| MATERIAL CLASS | STANDARD RECIPES | RECIPES IN DEVELOPMENT | SYSTEM CAPABLE MATERIALS |
| Oxides (AxOy) | Al, Si, Ti, Zn, Zr, Hf | V, Y, Ru, In, Sn, Pt | Li, Be, Mg, Ca, Sc, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Ga, Sr Nb, Rh, Pd, Sn, Ba, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd |
| Elementals (A) | Ru, Pd, Pt, Ni, Co | Rh, Os, Ir | Fe, Cu, Mo |
| Nitrides (AxNy) | Zr, Hf, W | Ti, Ta | Cu, Ga, Nb, Mo, In |
| Sulfides (AxSy) | Ca, Ti, Mn, Cu, Zn, Sr, y, Cd, In, Sn, Sb, Ba, La, W | ||
| Other Compounds | AZO (AL:ZnO), AxSiyOz ()A=Al, Zr, Hf | YSZ (yttria stabilized sirconia) ITO | Many others |
