世偉洛克原子沉積閥
品名：316L VIM-VAR ALD 閥，1/4 in. 內螺紋 VCR, SC-01, NO 執行器
品牌：世偉洛克
尺寸：1/4 in. 內螺紋 VCR, SC-01, NO 執行器
材質：316不銹鋼
原子層沉積是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。
高性能 ALD 閥是世偉洛克長期以來在半導體制造業中顯示出迅速積極的技術領導力的一個重要例子。ALD 閥技術問世以來，世偉洛克與半導體行業的客戶密切合作，了解他們的需求，然后打造出 ALD 閥，提供必要的、高水平的精度、一致性、清潔度和高循環壽命，以跟上市場的快速創新步伐。我們的 ALD 超高純閥具有以下特點：
快速開關下的超高循環壽命
流量系數從 0.27 至 1.7
使用耐熱執行機構時，可在 392°F (200°C) 下*浸入
適合于采用標準 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體的超高純應用
模塊化表面安裝、卡套管對焊和世偉洛克 VCR® 端接
電子或光學執行機構位置傳感選購件
世偉洛克原子沉積閥
