資料下載：PLASSYS 約瑟夫森結制備系列系統(磁控濺射,電子束蒸鍍).pdf[786KB]資料下載：微波等離子體化學氣相沉積系統、磁控濺射、電子束蒸鍍、反應離子束刻蝕.pdf[903KB]關鍵詞: MPCVD, MWCVD, MPACVD, MPECVD, CVD金剛石、微波等離子體化學氣相沉積系統
CVD金剛石合成設備、納米晶金剛石、超納米晶金剛石、UNCD、NCD、MCD、大面積金剛石窗口
Microwave Plasma Assited/Enhanced Chemical Vapor Deposition System
微波等離子化學氣相沉積系統特點概述
適用范圍：生長大面積金剛石薄膜(4-8英寸，甚至更大)
生長速度：可高達幾μm-幾十μm/h，甚至更高；
大面積光學級金剛石厚膜生產研究型：
微波功率：915MHz，36KW / 54kW；
反應腔體：鋁合金+石英管；
水冷襯底：直徑150mm或更大; 襯底旋轉可選.
真空系統：干泵+TMP（營造高真空基準）；
控制系統：全自動（適合大批量生產）；
生長速率：up to 5μm/h, 或更 高速率
整體特點：專門大面積金剛石薄膜研究及生產配置；可獲得4’’-8’’光學級金剛石厚膜（several mm thicknesses），也可以用于研究合成diamond dome.
生長大面積光學窗口、探測窗口、微波窗口等，請詳細咨詢！
