摘要 吉致電子氧化鋁拋光液分散性好、乳液均一，提升拋光速率，降低微劃傷的概率，提高拋光精度。適用于光學(xué)晶體、SiC表面拋光、超硬陶瓷和金屬表面

摘要 無(wú)錫吉致電子氧化層拋光液產(chǎn)品特點(diǎn)：納米級(jí)SiO2磨料，粒徑均一穩(wěn)定，去除速率穩(wěn)定，金屬離子含量低，通過(guò)CMP工藝可有效去除表面氧化層，達(dá)到理想平坦度。吉致電子Oxide Slurry與國(guó)內(nèi)外同類(lèi)產(chǎn)品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特點(diǎn)。

摘要 無(wú)錫吉致電子碳化硅晶圓拋光液為電力電子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化學(xué)機(jī)械平坦化配制的拋光液。CMP拋光液大大提高了碳化硅晶圓表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光潔度。

摘要 為半導(dǎo)體行業(yè)/光學(xué)行業(yè)調(diào)配的磷化銦InP拋光液/CMP Slurry組合漿料，適用于磷化銦晶圓的坦化加工。設(shè)計(jì)滿足從研磨到CMP的襯底制造的各個(gè)工藝階段的規(guī)范，在磷化銦晶圓拋光應(yīng)用中提供了可靠的解決方案。

摘要 為半導(dǎo)體行業(yè)/光學(xué)行業(yè)調(diào)配的藍(lán)寶石研磨液/藍(lán)寶石LED襯底拋光液/Sapphire Slurry組合漿料，適用于藍(lán)寶石基片、外延片、LED的平坦化加工。設(shè)計(jì)滿足從研磨到CMP的襯底制造的各個(gè)工藝階段的規(guī)范，在藍(lán)寶石基片拋光應(yīng)用中提供了可靠的解決方案。

摘要 吉致電子金屬logo拋光液適用于Apple Logo拋光，鈦合金、鋁合金、不銹鋼材質(zhì)的logo標(biāo)志可通過(guò)CMP粗磨、細(xì)磨和拋光工序得到理想鏡面效果，具有易清洗、?無(wú)殘留等特點(diǎn)。

摘要 鎢W拋光液作用: 吉致電子鎢W拋光液適用于8-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO2水溶膠為磨料，拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少。與國(guó)內(nèi)外同類(lèi)產(chǎn)品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特點(diǎn).

摘要 無(wú)錫吉致電子25年研發(fā)生產(chǎn)——鋁合金拋光液/鋁合金slurry/鋁合金懸浮液/鋁合金拋光液拋光漿料Slurry/鋁合金CMP拋光液/鋁合金化學(xué)機(jī)械拋光液/鋁合金lapping研磨拋光液/鋁合金化學(xué)機(jī)械拋光液Slurry/鋁合金CMP集成電路拋光液/JEEZ鋁合金拋光液

摘要 硬質(zhì)合金拋光液作用: 吉致電子硬質(zhì)合金拋光液適用于硬度高韌性耐腐蝕的合金金屬工件，通過(guò)CMP粗磨、細(xì)磨和拋光工序可得到理想鏡面效果，合金金屬研磨液具有易清洗、無(wú)殘留等特點(diǎn)。

摘要 STI Slurry 適用于集成電路當(dāng)中的銅互連工藝制程中銅的去除和平坦化。具有高的銅去除速率，碟型凹陷可調(diào)，低缺陷等特性?。可應(yīng)用于邏輯芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量產(chǎn)使用。清除集成電路中銅拋光后表面的拋光顆粒和化學(xué)物殘留，以防銅表面腐蝕，降低表面缺陷。

摘要 射頻濾波器拋光液適用于集成電路當(dāng)中的銅互連工藝制程中銅的去除和平坦化。具有高的銅去除速率，碟型凹陷可調(diào)，低缺陷等特性。可應(yīng)用于邏輯芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量產(chǎn)使用。清除集成電路中銅拋光后表面的拋光顆粒和化學(xué)物殘留，以防銅表面腐蝕，降低表面缺陷。

摘要 TSV硅通孔的作用: 提高集成度、降低功耗系統(tǒng)地集成數(shù)字電路、模擬電路。通過(guò)銅、鎢、多晶硅等導(dǎo)電物質(zhì)的填充實(shí)現(xiàn)硅通孔的垂直電氣互連，用于3D封裝TSV阻擋層化學(xué)機(jī)械拋光液。

摘要 無(wú)錫吉致電子25年研發(fā)生產(chǎn)——Apple Logo鏡面拋光液、手機(jī)Logo拋光液、鋁合金拋光液、金屬拋光液、CMP拋光液、平面研磨拋光液、手機(jī)logo化學(xué)機(jī)械拋光液、CMP化學(xué)機(jī)械拋光液Slurry、CMP集成電路拋光液、手機(jī)logo slurry

摘要 無(wú)錫吉致電子25年研發(fā)生產(chǎn)——半導(dǎo)體拋光液、陶瓷覆銅板DPC拋光液、DBC研磨液、陶瓷覆銅板研磨液、DPC拋光液、CMP化學(xué)機(jī)械拋光液、陶瓷覆銅板slurry、DPC sl?urry、DBC slurry、CMP化學(xué)機(jī)械拋光液slurry、CMP集成電路拋光液

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：為半導(dǎo)體行業(yè)/鈮酸鋰晶體晶圓制備的化學(xué)機(jī)械拋光液/Slurry組合漿料，適用于LiNbO3領(lǐng)域的平坦化高效加工。設(shè)計(jì)滿足鈮酸鋰（LiNbO3）晶圓提高材料去除率，降低表面粗糙度，獲得超光滑表面

摘要 為不銹鋼模具及電子器件、不銹鋼手機(jī)邊框、手機(jī)金屬外殼拋光、手機(jī)按鍵拋光、蘋(píng)果Logo拋光等配制的拋光液。CMP拋光液大大提高了不銹鋼工件表面去除率和平坦化性能

摘要 為金屬模具及電子器件、金屬邊框拋光、金屬外殼拋光、手機(jī)按鍵拋光、蘋(píng)果Logo拋光等配制的拋光液。適用于手機(jī)鈦合金件研磨拋光液/鋁合金件研磨拋光液/鎂合金件研磨拋光液/不銹鋼研磨拋光液

摘要 吉致電子陶瓷類(lèi)拋光液適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光，通過(guò)CMP拋光工序可得到理想鏡面效果，表面光滑平整具有易清洗、無(wú)殘留等（李177----06------168------670）特點(diǎn)。

摘要 無(wú)錫吉致電子針對(duì)碳化硅sic拋光的4道工藝制程搭配不同型號(hào)研磨液、拋光液和拋光墊（粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊）。在研磨和拋光應(yīng)用中提高碳化硅襯底表面質(zhì)量，同時(shí)大大提高材料去除率。

摘要金屬鉬片拋光液作用:吉致電子金屬類(lèi)拋光液適用于平面形態(tài)的鉬、鉬合金工件的鏡面拋光，CMP拋光工序通過(guò)大量磨擦和化學(xué)反應(yīng)作用，可以使鉬金屬表面快速去粗和平整坦化。化學(xué)氧化腐蝕鉬合金表面，研磨去除氧化物部分的機(jī)制可得到理想鏡面效果，金屬鉬工件表面光滑平整具有易清洗、無(wú)殘留...

摘要 合金銅CMP拋光液作用:吉致電子金屬類(lèi)拋光液適用于平面形態(tài)的銅、合金銅工件的鏡面拋光，CMP拋光工序通過(guò)大量磨擦和化學(xué)反應(yīng)作用，可以使銅金屬表面得到加工和平整坦化。化學(xué)氧化銅金屬后磨蝕性去除氧化物部分的機(jī)制可得到理想鏡面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、無(wú)殘留等特點(diǎn)。

摘要品牌：朗普朗 CAS號(hào)： 外觀： ...

摘要品牌：朗普朗 CAS號(hào)： 外觀： ...

摘要 TECHNOVIT Bio-DIAMANT 金剛石懸浮液、拋光液【Lamplan Herseus Kulzer 賀利氏古莎】

摘要 當(dāng)某些較軟的、有韌性的試樣，需要經(jīng)過(guò)最終拋光才能達(dá)到理想效果時(shí)，應(yīng)選用氧化物懸浮拋光液。

摘要 概述：當(dāng)某些較軟的、有韌性的試樣，需要經(jīng)過(guò)最終拋光才能達(dá)到理想效果時(shí)，應(yīng)選用氧化物懸浮拋光液

摘要 概述：每一顆金剛石都經(jīng)精挑細(xì)選，嚴(yán)格的分級(jí)粒度，*的制備工藝使之適用于不同的磨拋載體，滿足不同樣品的制備需求

摘要金相拋光懸浮液、精拋光液【二氧化硅】產(chǎn)品簡(jiǎn)介Productintroduction弘測(cè)公司開(kāi)發(fā)和經(jīng)營(yíng)的研磨拋光材料系列均為優(yōu)選的磨料，*的制備工藝保證了高質(zhì)量的顆粒呈等積形狀；嚴(yán)格的分級(jí)工藝保證了實(shí)際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒，其粒度組成都高于國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的粒度范圍...

摘要金相拋光懸浮液、精拋光液【氧化鋁】產(chǎn)品簡(jiǎn)介Productintroduction弘測(cè)公司開(kāi)發(fā)和經(jīng)營(yíng)的研磨拋光材料系列均為優(yōu)選的磨料，*的制備工藝保證了高質(zhì)量的顆粒呈等積形狀；嚴(yán)格的分級(jí)工藝保證了實(shí)際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒，其粒度組成都高于國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的粒度范圍要...

摘要 Burst 拋光液配送系統(tǒng)

摘要 在金相制樣中Z終拋光的步驟取決于材料在金相微評(píng)估中所需要的表面質(zhì)量，在比較軟的金屬材料或非金屬的拋光過(guò)程中，使用氧化物作為Z終拋光的步驟是經(jīng)常被使用的英菲洛提高兩種氧化物拋光液：硅膠懸浮液 ，氧化鋁拋光液

摘要 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：在金相實(shí)驗(yàn)室，金相試樣的制備過(guò)程中，試樣的預(yù)磨和拋光是多道的程序，在磨拋過(guò)程中需要加入拋光懸浮液，本滴液器是為了方便拋光液的自動(dòng)添加、自動(dòng)滴定而設(shè)計(jì)

摘要 不銹鋼系列電化學(xué)拋光液

摘要 鈷鉻合金系列電化學(xué)拋光液

摘要 鎳鈦合金系列 電化學(xué)拋光液

摘要 鎂合金系列電化學(xué)拋光液

摘要 鋅合金系列 電化學(xué)拋光液

摘要 名稱(chēng)：金剛石拋光液 品牌：中研立華 型號(hào)：zylh 尺寸：500ml （可定制） 用途：適用于不銹鋼、銅件、鋁合金、塑料等去毛刺，減少研磨對(duì)工件的碰傷，使工件表面達(dá)到理想光澤度。 產(chǎn)地：江蘇（蘇州）

摘要 我們公司開(kāi)發(fā)和經(jīng)營(yíng)的研磨拋光材料系列均為優(yōu)選的磨料，*的制備工藝保證了高質(zhì)量的顆粒呈等積形狀；嚴(yán)格的分級(jí)工藝保證了實(shí)際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒，其粒度組成都高于國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的粒度范圍要求

摘要 Burst拋光液配送系統(tǒng)磨拋機(jī)磨拋這一步在金相制備中有多種不同的方式和組合

摘要 項(xiàng)目/具體描述內(nèi)容產(chǎn)品名稱(chēng)氧化鋁拋光膏產(chǎn)品別名切片瓶拋光膏

摘要 氧化鋁懸浮拋光液

摘要 用于zui后的完成拋光

摘要 金剛石顆粒在穩(wěn)定的載液中保持懸浮和分離，研磨更快，需要較少的時(shí)間即可實(shí)現(xiàn)表面光潔度的增加，在更小的人為損壞下（涂抹，劃痕，等）產(chǎn)生更清晰的組織結(jié)構(gòu)

摘要 SANHAO生產(chǎn)拋光粉 精細(xì)微米級(jí)研磨粉 氧化鋁拋光液金剛石液0.05