上海棱光雙光束紫外在金剛石薄膜研究中的應用
圖1為采用UL--CVD技術生長金剛石薄膜的實驗裝置示意圖,為了有利于活化基團的產生及激活襯底表面,提高生長速率,本文采用相互垂直的、波長λ= 266nm的兩束聚焦紫外光(見圖1)分別照射到物質源及n-Si (111)襯底上,聚焦光斑尺寸為5x 5mm2.物質源CH,用高純氫稀釋到0.5%,以100m1/ min的流速進入反應室中,嚴格控制噴嘴距襯底的距離為5mm,襯底溫度控制在50~600C。為了促進金剛石的成核,襯底需事先經劃痕加工.生長時間為1小時。
相關產品
免責聲明
客服熱線: 15024464426
加盟熱線: 15024464426
媒體合作: 0571-87759945
投訴熱線: 0571-87759942
下載儀表站APP
Ybzhan手機版
Ybzhan公眾號
Ybzhan小程序