上海棱光技術熒光光度計測酸質的選擇

不同無機酸條件下所得熒光強度，HNO3介質作用下，鎘的熒光強度顯著低于其他酸介質。這是由于HNO,具有強氧化性,優(yōu)先大量消耗硼氫化物,使得鎘的揮發(fā)性氫化物產生率異常低，此外,由于H2SO4和H,PO4的粘度均較高,上海棱光技術熒光光度計使得鎘離子與硼氫化物接觸反應受到抑制，進而使得鎘的揮發(fā)性氫化物生成速率較低。由此可得,在粘度低、具有還原性的HCI介質中,鎘元素的熒光強度較高,即分析靈敏度較高。

氫氧化鉀的質量濃度影響鎘的原子熒光強度,主要是由于氫氧化鉀會影響反應體系的pH值.當氫氧化鉀質量濃度低時,體系中反應剩余的氫離子濃度偏高。剩余的氫離子競爭鎘離子與反應,影響鎘的揮發(fā)性氫化物的生成速率。而當氫氧化鉀質量濃度高時,反應體系中酸性會減弱,酸性弱時,電負性弱的鎘離子與結合形成的絡合物相對穩(wěn)定,生成揮發(fā)性氫化物的速率下降。