KRI 聚焦離子源 RFICP 220 輔助磁控濺射鍍制 3D 膜

來源：上海伯東企業(yè)有限公司 2020年10月14日 10:45

某國內(nèi) 3D玻璃制造商采用伯東 KRI 聚焦射頻離子源 RFICP 220 輔助磁控濺射鍍制 3D 玻璃膜, 以獲取高品質(zhì) 3D玻璃膜.

其磁控濺射鍍膜工藝流程如下圖:

磁控濺射鍍膜原理：

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞, 電離出大量的氬離子和電子, 電子飛向基片. 氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材, 濺射出大量的靶材原子, 呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜.

伯東 KRI 聚焦射頻離子源 RFICP 220 技術(shù)參數(shù):

離子源型號	RFICP 220
Discharge	RFICP 射頻
離子束流	>800 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	20 cm Φ
離子束	聚焦
流量	10-40 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	30 cm
直徑	41 cm
中和器	LFN 2000

運(yùn)行結(jié)果:

使用伯東KRI 聚焦射頻離子源 RFICP 220 輔助磁控濺射鍍制 3D 玻璃膜, 保證鍍膜的質(zhì)量, 所生產(chǎn)出的陶瓷手機(jī)蓋板鍍膜無論是環(huán)境脫膜測試, 耐刮測試, 膜層應(yīng)力測試等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機(jī)所搭配的離子源, 提高生產(chǎn)率.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口品牌的代理商.

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KRI 聚焦離子源 RFICP 220 輔助磁控濺射鍍制 3D 膜

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