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溫嶺市溶氣氣浮機(jī)性能穩(wěn)定

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氧化溝工藝

氧化溝工藝是20世紀(jì)50年代由荷蘭的帕斯維爾(Pasveer)研發(fā)的一種污水生物處理技術(shù)，屬于延時(shí)曝氣法的一種特殊形式，因其構(gòu)筑物呈封閉的溝渠型而得名，由于其出水水質(zhì)能達(dá)到設(shè)計(jì)要求，并且運(yùn)行穩(wěn)定、管理方便，目前，氧化溝污水處理技術(shù)已廣泛應(yīng)用于城市污水、工業(yè)廢水(包括石油、化工、造紙、印染及食品加工廢水等)處理工程。

(1)氧化溝的組成

氧化溝由氧化溝池、曝氣設(shè)備、進(jìn)出水裝置、導(dǎo)流和混合裝置等組成。

氧化溝池屬于封閉環(huán)流式反應(yīng)池，溝體狹長(zhǎng)，一般星環(huán)形溝渠狀，平面多為橢圓形(圖10)，總長(zhǎng)可達(dá)幾十米，甚至百米以上。在環(huán)形溝槽中設(shè)有曝氣設(shè)備，推動(dòng)污水和活性污泥混合液在閉合式曝氣渠道中以0.3 m/s以上的平均流速連續(xù)循環(huán)流動(dòng)，水力停留時(shí)間10~30h,因此，可以認(rèn)為溝內(nèi)污水水質(zhì)幾乎*，即總體上的污水流態(tài)是*混合式，但具有局部推流特征，如曝氣器的下游，溶解氧濃度從高到低變化。溝內(nèi)水深與采用曝氣設(shè)備有關(guān)，為2.5~8m:采用曝氣轉(zhuǎn)刷一-般在2.5m左右;采用曝氣轉(zhuǎn)盤一般不大于4.5 m;采用立式表面曝氣機(jī)水深一般可為4~6m，Z深可達(dá)8 m。

曝氣設(shè)備是氧化溝的主要裝置，用以供氧、推動(dòng)水流作循環(huán)流動(dòng)、防止活性污泥沉淀及對(duì)反應(yīng)混合液的混合。常用臥式曝氣轉(zhuǎn)刷和曝氣轉(zhuǎn)盤，也可根據(jù)實(shí)際情況采用立式表面曝氣機(jī)、射流曝氣機(jī)、  導(dǎo)管曝氣機(jī)以及混合曝氣系統(tǒng)等。

進(jìn)出水裝置包括進(jìn)水口、回流污泥口和出水調(diào)節(jié)堰等。氧化溝進(jìn)水和回流污泥進(jìn)口應(yīng)在曝氣器的上游，使進(jìn)水能與溝內(nèi)混合液立即混合。

單池進(jìn)水比較簡(jiǎn)單，采用進(jìn)水管即可，而有2個(gè)以上氧化溝平行工作時(shí)，進(jìn)水要用配水井，  當(dāng)采用交替工作的氧化溝時(shí)，配水井內(nèi)還需設(shè)自動(dòng)控制裝置。氧化溝出水一般采用溢流堰，溢流堰高度可調(diào)節(jié)，出水位置應(yīng)在曝氣器的下游，并且離進(jìn)水點(diǎn)和回流污泥點(diǎn)足夠遠(yuǎn)，以免短流。

導(dǎo)流和混合裝置包括導(dǎo)流墻和導(dǎo)流板。在氧化溝的彎道處設(shè)置導(dǎo)流墻，以減少水頭損失，防止通過彎道的污水出現(xiàn)停滯和渦流現(xiàn)象，防止對(duì)彎道處的過度沖刷。在轉(zhuǎn)刷上下游設(shè)置導(dǎo)流板，主要是為了使表面的較高流速轉(zhuǎn)入池底，同時(shí)降低混合液表面流速，提高傳氧速率。

此外，  氧化溝處理系統(tǒng)還包括二沉池、刮(吸)泥機(jī)和污泥回流泵房等附屬設(shè)施，此部分與傳統(tǒng)活性污泥工藝相同。