X光鍍層測(cè)厚儀,電鍍測(cè)厚儀,鍍層測(cè)厚儀,電鍍膜厚儀
電鍍層測(cè)厚儀,XV測(cè)厚儀,X-RAY鍍層測(cè)厚儀,膜厚測(cè)試儀
鍍金測(cè)厚儀,鍍鎳測(cè)厚儀,鍍銀測(cè)厚儀,鍍鋅測(cè)厚儀
鍍錫測(cè)厚儀,電鍍膜厚測(cè)試儀,電鍍層厚度檢測(cè)儀
X射線鍍層測(cè)厚儀,電鍍層測(cè)厚儀,電鍍層測(cè)試儀
韓國(guó)Micro Pioneer(先鋒)X射線鍍層測(cè)厚儀
XRF-2000鍍層測(cè)厚儀共分三種型號(hào)
不同型號(hào)各種功能一樣
機(jī)箱容納樣品大小有以下不同要求
XRF-2000鍍層測(cè)厚儀型號(hào)介紹
XRF-2000鍍層測(cè)厚儀H型:測(cè)量樣品高度不超過(guò)10cm
XRF-2000電鍍測(cè)厚儀L型:測(cè)量樣品高度不超過(guò)3cm
XRF-2000電鍍膜厚儀PCB型:測(cè)量樣品高度不超3cm(開(kāi)放式設(shè)計(jì),可檢測(cè)大型樣品
韓國(guó)先鋒XRF2000鍍層測(cè)厚儀(*)
檢測(cè)電子及五金電鍍,化學(xué)電鍍層厚度
主要檢測(cè):鍍金,鍍銀,鍍鎳,鍍銅,鍍鋅,鍍錫,及各種合金鍍層等
韓國(guó)XRF2000鍍層測(cè)厚儀
全自動(dòng)臺(tái)面
自動(dòng)雷射對(duì)焦
多點(diǎn)自動(dòng)測(cè)量 (方便操作人員準(zhǔn)確快捷檢測(cè)樣品）
測(cè)量樣品高度不超過(guò)3cm(亦有10CM可選)
鍍層厚度測(cè)試范圍：0.03－35um
可測(cè)試單層，雙層，多層及合金鍍層厚度
(單層:如各種底材上鍍鎳,鍍鋅,鍍銅,鍍銀,鍍錫,鍍金等)
(雙層:如銅上鍍鎳再鍍金,銅上鍍鎳再銀,鐵上鍍銅再鍍鎳等)
多層:如ABS上鍍銅鍍鎳再鍍鉻,鐵上鍍銅鍍鎳,再鍍金等)
合金鍍層:如鐵上鍍錫銅等
測(cè)量時(shí)間：10－30秒
精度控制：
*層：±5%以?xún)?nèi)
第二層：±8%以?xún)?nèi)
第三層：±12%以?xún)?nèi)
XRF2000鍍層測(cè)厚儀,提供金屬鍍層厚度的測(cè)量，同時(shí)可對(duì)電鍍液進(jìn)行分析，不單性能*,而且價(jià)錢(qián)*
同比其他牌子相同配置的機(jī)器，XRF2000為您大大節(jié)省成本。只需數(shù)秒鐘,便能非破壞性地得到準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果
甚至是多層鍍層的樣品也一樣能勝任。全自動(dòng)XYZ樣品臺(tái)，鐳射自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)，十字線自動(dòng)調(diào)整。超大/開(kāi)放式的樣品臺(tái)，
可測(cè)量較大的產(chǎn)品。是線路板、五金電鍍、首飾、端子等行業(yè)的*。可測(cè)量各類(lèi)金屬層、合金層厚度等。
可測(cè)元素范圍：鈦（Ti） – 鈾（U） 原子序 22 – 92
準(zhǔn)直器：固定種類(lèi)大小:可選圓形0.1 0.2 0.3 0.4mm 方型1×0.4mm
自動(dòng)種類(lèi)大小:可選圓形0.1 0.2 0.3 0.4mm 方型0.05×0.4mm
電腦系統(tǒng)：DELL品牌電腦,17寸液晶顯示器，惠普彩色打印機(jī)
綜合性能:鍍層分析 定性分析 定量分析 鍍液分析 統(tǒng)計(jì)功能
X射線鍍層測(cè)厚儀的測(cè)量原理
物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái)，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度，來(lái)進(jìn)行定性和定量分析
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