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硅烷純度分析氦離子氣相色譜儀

閱讀:279發布時間:2022-6-22

 

電子工業氣體:

高純度硅烷氣體雜質組份的檢測

一:應用領域:
硅烷在大規模集成電路(LSI)、超大規模集成電路(VLSI)和半導體器件制造中,用于氣相外延生長、化學氣相淀積等工藝(工序)。
1. 外延(生長)混合氣 在半導體工業中,在仔細選擇的襯底上選用化學氣相淀積的方法,生長一層或多層的材料所用的氣體叫做外延氣體。常用的硅外延氣體有二氯二氫硅、四氯化硅和硅烷等。主要用于外延硅淀積,多晶硅淀積,氧化硅膜淀積,氮化硅膜淀積,太陽能電池和其他光感受器的非晶硅膜淀積等。外延生長是一種單晶材料淀積并生長在襯底表面上的過程。 
2. 化學氣體淀積(CVD)用混合氣 CVD是利用揮發性化合物,通過氣相化學反應沉積某種單質或化合物的一種方法,即應用氣相化學反應的一種成膜的方法。依據成膜種類,使用的化學氣相淀積(CVD)氣體也不同。


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