網(wǎng)絡(luò)講堂邀請(qǐng)：X射線熒光法直接測(cè)定NiP鍍層厚度和含量
2016年12月22日

主題：X射線熒光法直接測(cè)定NiP鍍層厚度和含量

開(kāi)始時(shí)間： 2017-1-12 15:00
結(jié)束時(shí)間： 2017-1-12 16:00
主講人： 董松林，牛津儀器（上海）有限公司臺(tái)式熒光應(yīng)用工程師，*從事X射線熒光儀和XRF分析方法的應(yīng)用與工作。

【內(nèi)容簡(jiǎn)介】

化學(xué)鎳（NiP）鍍層應(yīng)用在表面處理行業(yè)非常廣泛，但生產(chǎn)工藝控制中對(duì)于NiP鍍層的厚度和成分同時(shí)監(jiān)控是一個(gè)難點(diǎn)。傳統(tǒng)的分析方法是預(yù)設(shè)NiP比例，然后測(cè)試厚度。無(wú)法做到同時(shí)測(cè)量。

本次講堂介紹一種使用XRF方法同時(shí)測(cè)定NiP鍍層厚度和組成的解決方案。通過(guò)對(duì)測(cè)試所需儀器的硬件介紹，幾個(gè)具體案例和實(shí)際測(cè)試數(shù)據(jù)來(lái)說(shuō)明NiP厚度與組成同時(shí)測(cè)量的可行性。