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UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域，廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位，可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作，既避免了交叉污染，又提高了工作效率。本機(jī)采用機(jī)械加壓模式對(duì)被研磨樣品加壓，壓力施加于載物盤的中心，使整個(gè)載物盤受力均勻。通過手觸控制屏對(duì)設(shè)備進(jìn)行控制，上盤可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)，下盤作順時(shí)針旋轉(zhuǎn)，通過樣品盤的材質(zhì)不同可以選擇上盤的旋轉(zhuǎn)方向。機(jī)器工作過程中噪音小，具有研磨定時(shí)功能，時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止，可以實(shí)現(xiàn)無人看守工作。

設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位，可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。
中心加載壓力，壓力穩(wěn)定可靠。
性能優(yōu)良，操作簡單，適用范圍廣。

技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)	UNIPOL-1000D
安裝條件	1、溫濕度：10-85%RH (at 25℃ 無凝露）溫度： 0-45℃。 2、設(shè)備周圍無強(qiáng)烈震源和腐蝕氣體。 3、供電電源：單相：AC220V 50Hz 國標(biāo)三極插座 10A （插座必須有良好安全保護(hù)接地線） 4、冷卻水：設(shè)備配有上水口及下水口,需自行連接自來水及排水管線。 5、氣源：標(biāo)配設(shè)備無需求 6、工作臺(tái)：建議在承重 200kg 以上操作臺(tái)或桌面使用 7、通風(fēng)裝置：良好的通風(fēng)環(huán)境，無需特殊通風(fēng)裝置要求 8、輔助設(shè)備（另行購買）：推薦：1、SKCH-1 型精密測(cè)厚儀 2、SZKD-系列滴料器 3、YJXZ-12 攪拌循環(huán)泵 4、SKCS-1 型吹干機(jī)
主要參數(shù)	1、設(shè)備供電端口：AC220V 50Hz 2、總功率：850W 3、研拋盤直徑（下盤）Φ250 mm ×2 4、載樣盤直徑（桃型孔）：盤直徑：φ150mm 桃形孔直徑：φ25.4mm×6 5、研拋工位：2 工位 6、研拋頭主驅(qū)動(dòng)電機(jī)：DC110V 90W （減速電機(jī)） 7、下研磨盤主驅(qū)動(dòng)電機(jī)：DC110V 375W ×2 8、上研拋頭轉(zhuǎn)速：載樣盤轉(zhuǎn)速：10-80rpm（速度可調(diào)） 9、下研拋盤轉(zhuǎn)速：雙盤：50-400rpm（速度調(diào)速） 10、上研拋頭加壓范圍：設(shè)置范圍：0.5-20Kg 11、控制方式：觸摸屏+按鈕開關(guān)
產(chǎn)品規(guī)格	12、產(chǎn)品規(guī)格： ·尺寸：780mm×590mm×750mm； ·重量：≈125Kg
	備注： 1、設(shè)備供電為國標(biāo)單相交流 220V 50Hz，實(shí)際供電參數(shù)以產(chǎn)品后部粘貼標(biāo)牌為準(zhǔn)。 2、可按用戶要求定制各種研拋盤，特殊載樣盤、專用零部件等。

標(biāo)準(zhǔn)配件：

序號(hào)	名稱	數(shù)量	圖片鏈接
1	鑄鋁拋光盤	2個(gè)
2	桃型孔載物盤	1個(gè)
3	磁力片	4片
4	研拋底片	6片
5	砂紙（240#、400#、800#、1500#）	各2片
6	拋光墊（磨砂革、合成革、聚氨酯）	各2片
7	金剛石拋光膏	1支

可選配件：

序號(hào)	名稱	功能類別	圖片鏈接
1	平載物盤	（可選）
2	修盤環(huán)	（可選）
3	SKZD-2滴料器	（可選）
4	SKZD-3滴料器	（可選）
5	SKZD-4自動(dòng)滴料器	（可選）
6	SKZD-5滴料器	（可選）
7	YJXZ-12攪拌循環(huán)泵	（可選）
8	精密測(cè)厚儀	（可選）
9	陶瓷研磨盤	（可選）
10	玻璃研磨盤	（可選）