小型磁控濺射儀

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參考價(jià):39800

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)
KT-Z1650PVD
品牌
其他品牌
廠商性質(zhì)
生產(chǎn)商
所在地
鄭州市

規(guī)格

臺(tái) 39800元 66臺(tái)可售

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更新時(shí)間：2025-05-06 11:28:02瀏覽次數(shù)：157次

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  濺射儀

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鄭州市金水區(qū)智研實(shí)驗(yàn)室設(shè)備經(jīng)營(yíng)部（個(gè)體工商戶）

經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：198條

所在地區(qū)：河南鄭州市

聯(lián)系人：張正敏（銷售）

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)地	國(guó)產(chǎn)	加工定制	是

小型磁控濺射儀 KT—Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度可調(diào)節(jié)及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

詳細(xì)介紹

小型磁控濺射儀 KT—Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度可調(diào)節(jié)及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛倫茲力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng)。

小型磁控濺射儀

小型磁控濺射儀 技術(shù)參數(shù)

控制方式	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺(tái)	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測(cè)量	皮拉尼真空計(jì)（已安裝測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口