| 商品簡介： |
| 本公司生產的真空鍍膜電源（真空蒸發鍍膜電源和真空濺射鍍膜電源）有以下特點：1、恒流輸出，不隨氣壓變化。 2、抑制靶材弧光放電及抗短路功能, 具有的負載匹配能力。3、工藝重復性好。4、提高成膜速度， 實現高質量的濺射膜層。 |
| 詳細說明： |
| 真空鍍膜電源 真空鍍膜行業不同于以往的電鍍行業，屬于物理方式的表面處理行業。廣泛用于各種金屬及非金屬鍍膜裝置，涂鍍光元件、微電子元件、磁性元件、鐘表、種類裝飾材料、體育用品、精密工模具、薄膜包裝等鍍膜制品，以及應用于現代工業、航空航天航海等軍事領域的鍍耐蝕膜、耐磨損膜、固體潤滑膜裝置。 真空鍍膜過程非常復雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度 （HV,UHV）而擁有統一名稱。真空鍍膜主要分類有兩個大種類：蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。 一、對于蒸發鍍膜： 一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 二.對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且zui終沉積在基片表面，經歷成膜過程，zui終形成薄膜。 真空鍍膜電源是真空鍍膜設備的重要組成部分。例如在真空濺射設備中就是由濺射室、磁控濺射靶、對向磁控靶、射頻電源、直流電源、樣品加熱轉臺、真空獲得及測量系統、電控系統、氣路系統、微機控制膜層系統等組成。 本公司自主研發生產的真空鍍膜電源，成功地運用了優異的脈寬調制技術（PWM），引進三菱、富士等國外的IGBT核心執行元件，大功率機器采用結構均流技術，并配以各種完善的保護功能，使得高頻開關電源可靠性問題得到了圓滿解決，滿足低紋波要求，且體積小、重量輕、節能環保，是一種性價比*異的直流電源產品，也是可控硅整流電源的替代品。 本公司生產的真空鍍膜電源（真空蒸發鍍膜電源和真空濺射鍍膜電源）有以下特點： 1、恒流輸出，不隨氣壓變化。 2、抑制靶材弧光放電及抗短路功能。 具有的負載匹配能力 3、工藝重復性好 4、提高成膜速度， 實現高質量的濺射膜層。 真空蒸發鍍膜電源的電壓為18V,電流為2000A-5000A左右。 真空濺射鍍膜電源的電壓為800V,電流為50A-150A左右。 真空鍍膜電源技術指標： 品名:真空鍍膜電源 型號:SPWM系列 容量:0-100KVA 頻率:50 Hz 輸入相數:3相4線+G 輸入電壓:380 V+/-15% 輸出電壓:0-800V 輸出電流:0-5000A 穩壓精度:<1% 穩流精度: <1% 紋波: <1% 輸入功率因子:95%以上 整機效率：85%以上 面板顯示:輸出電壓表，輸出電流表(含V.S) 冷卻方式:強迫氣冷或內循環水冷 操作的環境條件: 溫度范圍:0 ~ 85℃ 相對濕度:10 ~90% 未凝結水滴(@25℃) 海拔高度:1000 m 箱體烤漆顏色:淺沙色,Munsell 5Y7/1,RAL 7032 開關電源特點：體積小，重量輕，效率高，節能*。功率因子高，對電網污染小。輸出紋波小。輸出電壓，電流獨立可調，恒壓，恒流自動轉換。保護功能齊全，有限流，限壓，過流，過壓，過熱，缺相保護。 |
