儀器介紹：

在當前材料科學、納米技術和先進制造工藝不斷深入發展的推動下，實驗室對高溫加熱設備的功能性與精準度提出了更高要求。特別是在化學氣相沉積（CVD）、真空熱處理、薄膜制備等實驗過程中，設備能否提供穩定可控的溫度環境與氣氛條件，已成為影響科研成果質量與實驗效率的關鍵因素。為滿足這類高精度實驗需求，具備優異控溫性能和良好系統擴展性的實驗室真空管式加熱爐逐漸成為高校及科研機構的重要實驗裝備。

實驗室真空管式加熱爐用于1100℃或1700℃以下CVD工藝。采用開啟式設計，方便樣品操作及爐管更換。高純電阻絲內嵌在輕質陶瓷纖維材料中，周邊拓展系統齊全，適合高校、科研院所實驗之使用。

儀器特點：

1.最高溫度1100℃、1700℃。

2.分體式設計，降溫速率快。
3.工作管徑范圍φ30mm、φ40mm、φ50mm、φ60mm、φ80mm、φ100mm。
4.高純氣煉石英管或者高純陶瓷管。

5.輕質陶瓷纖維隔熱材料，耐熱沖擊性好，蓄熱低。

6.快速升溫，升溫速率可達10℃。

7.半導體繼電器控制加熱元器件，控溫精確，壽命長，無噪音。

8.多段程序控溫，PID調節，可編制多種升降溫程序。

9.超溫保護功能，超溫自動斷電。

可選配置：

1.真空泵
2.多區控溫，兩溫區YMG(2)系列或三溫區YMG(3)系列（如下圖）
3.瑞典kanthal 電熱絲

4.數顯真空計（高精度顯示真空值）

5.多路氣氛混氣系統（浮子流量計或質量流量計）

6.無紙紀錄儀（帶通訊端口）

技術參數：