單溫區PECVD系統
產品描述：
該爐由TL1200真空管式爐、石英真空室、射頻電源、GX供氣系統、抽氣系統、真空測量系統組成。采用雙層殼體結構，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，抽真空時真空度能夠達到10-3Pa。該爐安裝有行程開關，當爐蓋打開時會自動切斷電源。該爐通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高所需的溫度更低。
技術參數：
1.額定溫度：1100℃ 2.溫度：1200℃ 3.電壓：220V
4.加熱元件：瑞典Kanthal-A1電阻絲 5.熱電偶：K型
6.溫控方式：智能化30段可編程控制 7.射頻電源：詳細參數請點擊鏈接地址
8.升溫速率：≤20℃/min 推薦升溫速率：≤10℃/min
9.真空法蘭和接頭：請咨詢相關業務人員
10.質量流量計： 請咨詢相關業務人員
型號 | TL1200-PE-Mini | TL1200-PE-II | TL1200-PE-III | TL1200-PE-IV | TL1200-PE-VI |
爐管尺寸 | Φ50X800 | Φ60X1200 | Φ80X1200 | Φ100X1200 | Φ150X1200 |
功率(KW) | 1.5 | 3.5 | 3.5 | 3.5 | 5 |
加熱段長(mm) | 205 | 440 | 440 | 440 | 440 |
