| 設備簡介: 流化床化學氣相沉積(Fluidized Bed Chemical Vapor Deposition, FBCVD)技術的三溫區立式管式爐。FBCVD技術是在爐內的流化床區域內進行,其中固體顆粒在上升的氣體流作用下呈現類似于液體沸騰的狀態,這樣不僅能夠增加物料與反應氣體的接觸面積,還能夠促進均勻受熱和反應物質的高效轉化,常用于制備薄膜、粉末等各種材料。 此設備除了具備普通三溫區管式爐的基本特征外,還針對流態化反應進行了優化設計,例如強化氣體流動和分布、確保流化床區域的穩定流態化狀態等。在實際應用中,它可以用于碳納米管、石墨烯等材料的生長,以及催化劑的制備和改性等領域。 | ||
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