全套電子自動化流量控制（AEFC，Automated Electronic Flow Control）
網絡化數據通訊及遠程控制系統 （LAN communication）
檢測器設計 （Advanced detector design）
全部漢化的鍵盤和軟件操作界面 （Chinese version of keypad and software）
*的電源分配管理分流器 (Patented power supply management)
苛刻的環境測試（高溫高濕） （Strict environment test for QA）
精密的程序升溫爐膛溫度控制 (Precise programmable oven temperature control)
獨立加熱小柱箱 （Separated columns oven)
的分析結果重復精度 (High reproducibility of analysis results)
強大的自檢及報錯功能 (Strong function of self-diagnostic)
可實現序列自動運行 (Sequence Run Available)
各種閥配置滿足氣體分析 (Comprehensive Valve Configuration for Complicated Analysis)
微氣路切割技術實現多位色譜及反吹功能 (Sandwich plate device for two dimension GC and/or back-fluch etc.)
柱溫箱
爐膛尺寸:28×30×18 cm
操作溫度范圍：高于室溫5℃～400℃
溫度設定精度：1℃
程序升溫zui高階數:7階
zui高程序升溫速度: 120℃/min
zui長一次方法運行時間：999.99min
可運行柱流失補償（雙通道）
進樣口
雙通道進樣口
進樣口類型可選：
填充柱進樣口（帶隔墊吹掃，可接大口徑毛細管柱）
毛細管柱分流/不分流進樣口）
分流/不分流毛細管柱進樣口
高精度電子壓力/流量控制
zui高使用溫度400°C
柱頭壓力設定范圍：0-100psi
柱頭壓力控制設定精度：0.01psi
總流量設定范圍：
0 —1000 mL /min（氦氣）
0 —200mL/min（氮氣）
流量設定精度：0.1 mL /min
zui大分流比：1：1000
氫火焰離子化檢測器（FID）
高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細管柱
zui高使用溫度450°C
zui小檢出限：<2.5皮克碳/秒
動態線性范圍：107（+10%）
數據采集頻率：zui高100HZ
熱導池檢測器（TCD）
高精度電子流量/壓力控制、
適配于填充柱和毛細管柱、
zui高使用溫度300℃、
數據采集頻率：zui高100hz、
動態線性范圍:105(±10%)、
zui小檢出限：<400皮克 丙烷/毫升（氦氣）
電子捕獲檢測器（ECD）
高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細管柱
zui高使用溫度400 °C
隱性陽極（帶吹掃）
檢測器補償氣類型：5%甲烷/氬氣或者氮氣
數據采集頻率：zui高100HZ
動態線性范圍：>5X105
zui小檢出限：<0.01mCi 63Ni
氮磷檢測器（NPD）
高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細管柱
zui高使用溫度450 °C
zui小檢出限：<3皮克 碳/秒
動態線性范圍：105N，105P
數據采集頻率：zui高100HZ
zui小檢測限：<0.2pg N/sec,<0.2pgP/sec
選擇性：25,000:1 gN/Gc,75,000:1 gP/Gc
