產(chǎn)品特點(diǎn)
|
|
|
|
|
|
|
|
1.針對(duì)于對(duì)等離子體處理有嚴(yán)苛要求的場(chǎng)合中使用,等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，兼顧物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)
2. 采用500W功率電源，自動(dòng)阻抗匹配，高功率射頻發(fā)生器可應(yīng)對(duì)各種實(shí)驗(yàn)要求，保障高能量密度和高處理效率
3. 高精度真空度控制，適應(yīng)各種處理需求
4. 316不銹鋼腔體（或者6061鋁合金），全不銹鋼管路和連接件，適用各種氣體（包含腐蝕性氣體）
5. 4.3寸工業(yè)級(jí)觸摸屏，軟件操作方便，多種參數(shù)設(shè)置和工藝組合處理模式
6. 可增加多種配件，涂覆鍍膜，電極溫度控制，等離子體強(qiáng)度控制，等離子體化學(xué)反應(yīng)等功能（如有特殊應(yīng)用，請(qǐng)咨詢銷售人員）
根據(jù)用戶需求，提供對(duì)應(yīng)等離子體處理方案和定制特殊用途設(shè)備
技術(shù)參數(shù)
1.配置不同模塊，拓展不同應(yīng)用
加熱電極模塊-溫度可控，可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性
沉積鍍膜模塊，改變表面特性：
沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性
沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性
沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果
感應(yīng)耦合模塊-感應(yīng)耦合等離子體裝置
2.氣體混合裝置
可以根據(jù)可以要求進(jìn)行混氣設(shè)計(jì)
3.氣體純化和反應(yīng)
氣體純化和使用等離子體與相關(guān)材料進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)
應(yīng)用領(lǐng)域處理實(shí)例：玻璃片不同處理?xiàng)l件下接觸角的變化（在實(shí)際操作中，選擇合適的工藝參數(shù)尤為重要） 檢測(cè)設(shè)備：接觸角測(cè)量?jī)x 測(cè)試液體 水液滴體積 1ul 等離子設(shè)備：真空等離子表面處理機(jī)PlutoM |
 | 結(jié)論： 在氧等離子體環(huán)境下，不同功率處理后接觸角都有明顯改善， 由處理前的接近50°下降到5°以內(nèi)，說明潤濕性提高很多。 功率為140W時(shí)，接觸角的改善是的； 但隨著功率增大到150W，效果反而不如140W。 |
 | 結(jié)論： 在氬氣等離子體環(huán)境下，不同功率處理后接觸角都有明顯改善， 由處理前的接近50°下降到5°以內(nèi)，說明潤濕性提高很多。 功率為140W時(shí)，接觸角的改善是的； 但隨著功率增大到150W，效果反而不如140W。 |
 | 結(jié)論： 在相同的氧氣氣氛和功率下，不同時(shí)間處理后的接觸角都有明顯改善， 但隨著處理時(shí)間為2min以上，處理效果并沒有提升，說明并非處理時(shí)間 越長效果越好，需要根據(jù)樣品選擇的處理時(shí)間。 |
