SCREEN單片式半導體清洗設備SU 3100具有8個內置腔室，吞吐量能夠達到300wph。

在日益小型化的半導體行業中，線寬窄至65納米的器件的大規模生產已經在進行中，于2008年開始的45納米加工設備的開發正在快速進行。由于這些原因，半導體制造商對占所有半導體制造工藝近四分之一的清潔工藝感到擔憂，他們正想辦法使用更有效、更高效的清潔設備。尤其是滿足需求的單晶圓清洗設備每年都在增加。

新型SU-3100旨在適應半導體行業的整體趨勢。新型SU-3100是久經驗證的SU-3000技術的一種改進，它擁有更高的晶圓傳輸速度，從而提高了清洗性能和生產效率。其新平臺可容納多達8個內置腔室，新開發的高速晶圓傳輸系統使SU-3100每小時可處理多達300個晶圓。SCREEN還為不同用途開發了2種新型的多處理室，使SU-3100能夠滿足各種客戶的需求，包括對當今更為精細的圖案進行的高級處理。SU-3100還具有新的DDI（動態直接噴射）混合系統，該系統可實現高精度的流量控制，使SU-3100適用于當今日益多樣化的工藝，并可提高加工效率。此外，根據設備的預期用途和所需的化學溶液，客戶甚至可以選擇一體式系統，無需單獨配置化學溶液柜。