日立MC1000離子濺射儀是由日立公司自行設計制造，針對掃描電鏡的精細需求而設計，適合微觀結構較復雜的樣品，尤其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。
主要特點：
1. 操作方便且有記憶功能，LCD觸摸屏控制技術，可存儲五種處理方案；
2. 通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；
3. 通過選配測量單元可實現1nm至30nm的鍍層厚度控制。
應用領域：
離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象，并提高觀測效率，另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳，實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。
| 產品名稱 | 參考價 | 地區 | 公司名稱 | 更新時間 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 離子濺射儀（非磁控）型號:HFD-12 | ￥15500 | 北京市 | 北京海富達科技有限公司 | 2024-06-06 | 在線詢價 |
| 小型離子濺射儀 | ￥20668 | 北京市 | 北京海富達科技有限公司 | 2022-12-22 | 在線詢價 |
| 離子濺射儀 | 面議 | 東莞市 | 東莞華雅檢測儀器有限公司 | 2025-05-09 | 在線詢價 |
| 韓國SAM公司離子濺射儀 | 面議 | 廣州市 | 廣州申控儀電科技有限公司 | 2025-03-26 | 在線詢價 |
| COWAQ S150RTL-1自動真空磁控離子濺射鍍膜儀 | 面議 | 杭州市 | 浙江納德科學儀器有限公司 | 2025-01-14 | 在線詢價 |
| 日立離子濺射儀MC1000 Ⅱ | 面議 | 北京市 | 北京思普特科技有限公司 | 2024-11-20 | 在線詢價 |
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