奧林巴斯BX53P偏光顯微鏡
奧林巴斯BX53P偏光顯微鏡具有鮮明的偏光成像，是地質學家的理想之選。比如礦物鑒定、晶體光學特性的分析和巖石薄片的鑒定等各種研究，都得益于穩定的顯微鏡系統性和精密的光學系統。
用于錐光鏡檢和正像鏡檢的勃氏鏡
采用U-CPA錐光觀察附件使錐光鏡檢和正像鏡檢之間的切換簡單而快捷。可以清晰地對焦后焦平面的干涉圖樣。勃氏鏡的視場光闌使其能夠始終獲取銳利而清晰的錐光圖像。
無應力光學元件
UPLFLN-P無應力物鏡得益于奧林巴斯*的設計和制造技術，將內部應力降到了zui低。這就意味著更高的EF值，從而可以得到的圖像反差。
種類豐富的補色器和波長板
提供了六種不同的補色器，用于測量巖石和礦物薄片的雙折射。測量光程差水平范圍從0到20λ。針對更方便的測量和高圖像反差， 可以使用B e r e k 和Senarmont補色器，它們能在整個視場內改變光程差級別。
各種補償板的延遲測量范圍 | ||
補償板 | 測量范圍 | 主要用途 |
U-CTB厚型Berek | 0-11,000nm | 較大的延遲測量（R*＞3λ）。（結晶、高分子、纖維、光彈性失真等） |
U-CBE Berek | 0-1,640nm | 延遲測量（結晶、高分子、纖維、生物體組織等） |
U-CSE Senarmont | 0-546nm | 延遲測量（結晶、生物體組織等）對比度增強（生物體組織等） |
U-CBR1 Brace-Kohler 1/10λ | 0-55nm | 微小延遲測量（結晶、生物體組織等） |
U-CBR2 Brace-Kohler 1/30λ | 0-20nm | |
U-CWE2 石英楔子 | 500-2,200nm | 延遲的近似測量（結晶、高分子等） |
*R表示延遲。
為提高測量精度，建議與干涉濾鏡45IF546一起使用。（U-CWE2除外）
