測試原理
通過軟件程序控制，讓X射線發生路產生適合的X射線去激發測試薄膜材料中的Si或者其他元素，被X射線激發后變為不穩定態,高能層的電子會躍遷到空穴并同時釋放特定能量被探測器接收,因每個元素都有自已特定的能量特征線,通過探測器的識別，計算機軟件的計算,即可準確識別該元素,并計算出含量。
儀器采用了大面積的晶體硅漂移探測器，分辨率能夠達到125eV,能分辨AI(鋁)元素和Si(硅)元素。
技術特點
● 測試采用X射線熒光光譜原理，測試過程無需耗材
● 配置高清液晶顯示器，測試過程和測試結果一目了然
● 光管垂直照射，硅元素性能得到更強激發
● 設備集成多個usb接口，數據和通訊傳輸滿足多種要求
● 測試下限好，可準確測量0.01g/m2的涂硅量
● 空氣光路內部環境得到顯著優化，大氣環境-樣可以直接測試
● 采用大面積硅漂移探測器，測試結果極其準確
● 一鍵測試/操作簡單智能，測試過程使用時間更短，結果更準確
● 快速采用新的模型算法，大大提高了輕元素的測量穩定性
技術參數
產品優勢
離型劑研發過程中的應用
1.通過測試涂布量，探索離型涂層的離型力與涂布量的關系
2.借助硅涂布量測試儀，可以測試離型涂層的萃取率，研究離型劑產品的固化情況
3.控制某一個確定的涂布量值，探索其他因素對離型涂層性能的影響
4.有機硅離型劑出廠前的檢測以及客戶涂布的離型劑紙(膜)的質量監測
