電感耦合等離子體質譜 (ICP-MS)7900 ICP-MS
Agilent 7900 ICP-MS 開啟了單四極桿 ICP-MS 的新紀元
Agilent 7900 ICP-MS 是一款靈活的單四極桿電感耦合等離子體質譜儀，可提供非常出色的基質耐受性、有效的氦碰撞模式、超低的檢測限和寬廣的動態范圍。因此，無論樣品類型如何，您都可以確信始終報告準確的數據，即使在痕量分析中也是如此。
7900 ICP-MS 為要求苛刻的商業和工業應用提供了超高的性能，并具有研究和高級分析（例如形態分析）所需的靈活性。高靈敏度和瞬時信號的快速采集是單納米顆粒 (spICP-MS)、單細胞分析和激光剝蝕所必需的，讓您能夠在競爭中脫穎而出。
特性
- 超穩定的（低 CeO/Ce）等離子體可提供出色的基質耐受能力
- 超高基質進樣系統 (UHMI) 使您能夠運行總溶解固體量 (TDS) 高達 25% 的樣品
- 氦 (He) 池氣體模式能夠可靠地控制多原子干擾，從而改善準確度
- 離軸透鏡可在整個質量范圍內提供高靈敏度和低檢測限
- 寬動態范圍檢測器使您可以在同一次樣品運行中分析常量和痕量元素
- 快速積分（駐留時間 0.1 ms）支持分析快速瞬態信號，例如單納米顆粒 (spICP-MS)
- ICP-MS MassHunter 方法向導可幫助您自動構建方法
- 配置靈活，可輕松連接至可選附件和外圍設備，適用于高級應用
應用
使用 HPLC-ICP-MS 進行一體化多元素形態分析
Agilent 7900 ICP-MS 可提供要求的應用所需的靈活性。針對安捷倫液相色譜系統提供全面的連接支持和集中的軟件控制，能夠實現常規以及高性能的形態分析。同時還支持其他色譜分離（例如 GC、CE 和 FFF。
HPLC-ICP-MS 高級功能包括自動切換色譜柱和流動相，能夠在一次無人值守運行序列中分析多種 HPLC-ICP-MS 方法。
單納米顆粒 (sNP) 分析的高靈敏度和快速信號采集
在激光剝蝕 (LA) ICP-MS 成像應用中，高靈敏度是檢測極小納米顆粒 (NP) 的重要因素，也是獲得理想空間分辨率的關鍵。
7900 在整個質量數范圍內具有出色的靈敏度，結合優化的 0.1 ms 駐留時間，可實現快速時間分辨分析 (TRA) 采集。將高靈敏度與 ICP-MS 高穩定性等離子體以及寬動態范圍檢測器相結合，可輕松實現常量元素分析。
利用靈活的配置和較高的性能輕松應對 ICP-MS 高級應用
7900 可提供要求的應用所需的靈活性。利用 ORS4 碰撞/反應池有效控制干擾，并結合高效的冷等離子體，實現高純度加工化學品的超痕量分析。可選的樣品引入工具包能夠實現有機溶劑和腐蝕性樣品（例如 HF）的常規分析。
易于連接至第三方外圍設備（例如激光剝蝕 (LA-ICP-MS)），從而實現固體的直接、高靈敏度分析。
Agilent 7900 ICP-MS 開啟了單四極桿 ICP-MS 的新紀元
ICP-MS 能否兼具高性能、靈活性和易用性？答案是肯定的。
7900 ICP-MS 具有出色的基質耐受能力、高靈敏度、寬動態范圍，以及用于控制多原 子干擾的的氦氣碰撞池模式。這種高性能與一系列自動調諧、方法設置和數 據分析工具相結合，使 ICP-MS 的操作比以往更輕松。 創新技術和新版 MassHunter 軟件平臺相結合，使 Agilent 7900 成為更強大、自動化 程度更高的四極桿 ICP-MS。 7900 的基質耐受能力擴展為百分之幾十的 TDS，并具有 11 個數量級的線性動態范圍。 此外，更新后的八極桿反應池系統 (ORS) 可支持更高效的氦氣碰撞模式。無論何種應 用，Agilent 7900 ICP-MS 均可提供優異的數據質量。
硬件創新實現的性能
出色的基質耐受能力
長期以來，ICP-MS 用于總溶解態固體 (TDS) 含量低 于 0.2% 的樣品。然而，7900 ICP-MS 憑借穩定的等離子體 （CeO/Ce 比值 < 1%）可以非常輕松地耐受這種水平的 基質。
標準的超高基質進樣系統 (UHMI) 功能可幫助您對高達 25% TDS 的樣品進行常規測量，比 ICP-MS 的傳統高 100 倍，可應對多種新應用。
痕量物質檢測更勝
新型的接口設計、離子透鏡和優化的真空系統提高了離子傳 輸效率，在 CeO < 2% 的條件下，靈敏度大于 109 cps/ppm。 此外，全新的正交檢測器可降低背景、顯著提高信噪比， 從而提供更低的檢測限和更準確的超痕量分析結果。
新一代 ICPMS 系統進一步拓展的分析范圍
新型正交檢測器系統 (ODS) 提供高達 11 個數量級的動態 范圍，從亞 ppt 級到百分級濃度。這可以讓您在同一次運 行中同時測量痕量與常量元素，從而簡化方法開發并基本 消除超出檢測范圍的結果。
更快的瞬時信號分析
快速瞬時信號的測量（用于諸如毛細管色譜、單納米顆粒 和單細胞分析以及激光剝蝕類的應用）需要儀器具有極短 的積分時間。7900 ICP-MS 具有超快速數據采集功能，每 秒可完成 10000 次獨立測量。
*設計造就的實用性
Agilent 7900 ICP-MS 的每個組件經過精心設 計，造就了的性能和可靠性
基于安捷倫長期以來作為 ICP-MS *技術的，我 們對 7900 ICP-MS 進行了精益求精的重新設計。精心設計、 優化的每個組件均可滿足繁忙實驗室的需求。
進樣系統
標準的低流量、帕爾帖冷卻進樣系統提高了 運行穩定性和一致性。集成進樣系統 (ISIS 3)* 增配了活塞泵和緊密連接的 7 通閥，可實現 高速不連續進樣。
超高基質進樣系統
(UHMI) UHMI 將基質耐受性提高到 25% 的總溶解態 固體 (TDS)，還可提高等離子體的穩定性， 顯著降低基質抑制效應。
等離子體與屏蔽炬系統 (STS)
精密離子能量控制確保了氦氣模式下的高靈敏度和有效的干擾去除 能力。維護儀器后，炬管將自動與接口對齊。
27 MHz 等離子體 RF 發生器
高速頻率匹配 RF 發生器增強了等離子體對各種基質的耐受能力， 即使是強揮發性的有機溶劑進樣也不會影響等離子體的穩定性。
接口與錐
標準配置的鎳錐或可選的鉑提高了離子 傳輸效率和基質耐受性。螺紋設計便于在維 護過程中拆卸。
離軸離子透鏡組
在整個質量數范圍內提高離子傳輸效率，大大減少質量歧視，無需 針對特定質量數進行電壓優化。
雙曲面四極桿
僅用于 ICP-MS 的雙曲面四極桿，具有優異的峰分離能力和豐度靈 敏度，無需定制四極桿設置即可實現相鄰峰的分離。
正交檢測器系統 (ODS)
ODS 提供了更高的靈敏度、更低的背景和 更寬的測量范圍（從 0.1 cps 至 10 Gcps，高 達 11 個數量級），消除了超范圍結果。
第四代八極桿反應池系統 (ORS4 )
配置新型氣體控制裝置的溫控型碰撞/反應 池，可在 3 秒內完成池氣體的快速切換。
八極桿離子導桿
八極桿通過氦氣碰撞模式的動能歧視 (KED) 提供了的干擾消除能力，這一特點在 數千臺已安裝的安捷倫 ICP-MS 設備中獲得 了充分驗證。
真空系統
高性能的叉分式渦輪泵與外置機械泵優化了接口區的真空，提高 了靈敏度與基質耐受性。
緊湊的臺式設計
作為安捷倫迄今為止最小的 ICP-MS 系統， 能節省寶貴的臺面空間，同時也能輕松對其 進行維修和維護
