根據近樣、離子束刻蝕、蒸鍍、濺射、氧化等功能在不通腔體中實現方式，PLASSYS提供2腔體、3腔體、4腔體、5腔體的電子束蒸鍍及磁控濺射設備，并根據用戶的預算情況，PLASSYS可以提供電子束蒸鍍系列設備MEB550S, MEB550SL, MEB550S2, MEB550S2-I, MEB550S3, MEB550S4-I, MEB550SL3, MEB700S2-II, MEB700SL4, MEB700SL5等多種型號電子束蒸鍍設備，以及MP350S， MP600S、MPE550S, MP700S等型號磁控濺射設備。

目前包括物理所、清華大學、南方科技大學、蘇州納米所、上海微系統所、中科大、哈爾濱工業大學、蘇州醫工所、長春光機所、上海酸鹽研究所等單位均在使用相關設備；在國際上也獲得了美國(Yale  Univ, Princeton  Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英國（Glasgow  Univ）、德國（KIT Karlsruhe, Dresden  Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo  Univ)、加拿大(Waterloo  Univ, Sherbrooke  Univ)、法國 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN,  Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers  Univ)、俄羅斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等國家的機構的高度認可。