高低溫恒溫循環(huán)裝置，低溫范圍從-60℃到-120℃，滿足實驗室和工業(yè)流程應用；
PID動態(tài)精密恒溫控制系統(tǒng)，波動度達到±0.2℃；
全開放開口尺度便于液槽內(nèi)腔的維護和觀察，同時滿足開口槽或閉環(huán)外循環(huán)應用。
技術(shù)參數(shù)：
| 型號SDGDY-80L/10°C | |
| 溫度范圍@20℃ | -40~+200℃ |
| 溫度波動度±℃ | 0.5 |
| 制冷量@20℃ W | 3000 |
| 制冷量@0℃W | 2000 |
| 制冷量@-20℃ | 1000 |
| 循環(huán)泵壓力bar | 2.0 |
| 循環(huán)泵流量L/min | 42L |
液體缺失與漫溢保護 | LLCo |
| 選裝裝置 | 國標電源、歐標電源、外部溫度傳感器、硅膠管保溫外循環(huán)管 RS232/RS485通訊接口及軟件、液體傳熱介質(zhì) |
| 電源 | 380V~50HZ |
SD10120系列超低溫恒溫液浴循環(huán)兩用裝置
1、浴槽式超低溫溫恒溫循環(huán)裝置，低溫范圍從-60℃到120℃，滿足實驗室和工業(yè)流程應用；
2、滿足工業(yè)現(xiàn)場應用的結(jié)構(gòu)設(shè)計與EMC兼容性設(shè)計；
3、滿足歐美、北美、南美洲及日本市場的電源及頻率 ;
4、選裝裝置及附件：外部溫度傳感器、硅膠管保溫外循環(huán)管、RS232/RS485通訊接口、傳熱介質(zhì)；
5、典型應用：適用于醫(yī)療、制藥及半導體工業(yè)，高溫、低溫或超低溫鑒定，計量或測量等開口槽應用；各檔制冷功率輸出可以滿足從大型工業(yè)設(shè)備到小型試驗，激光設(shè)備、電鏡、X光儀和X光機，注塑機和模壓機，焊接機和切割機，印刷機，材料試驗機，核磁共振儀，直線加速器，原子吸收光譜儀，LC-MS/MS，HRGC-MS,Q-TOF,蒸餾水制造設(shè)備，高壓消毒釜，真空系統(tǒng)，夾套式反應裝置，發(fā)酵裝置，擴散泵，液壓泵，半導體工業(yè)設(shè)備，旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀，電泳設(shè)備，粘度計，旋光儀等 ;
