二、用途及應用領域
用于Fe、Al、Mg、Cu、Zn、Sn、Ti、Ni、Co等多種基體的金屬及金屬合金中的組成元素、雜質微量元素的定量分析。
光學系統
帕型-龍格光學結構，多個高性能的CCD探測器
可實時監控的恒溫光室，使光學系統穩定
| 型號 | 波長 | 范圍描述 |
| M5000 F型 | 140-680nm | 雙光室配置，更優的紫外分析能力，能夠分析檢測N元素，可滿足Fe、Al、Cu、Zn、Ni、Ti、Mg、Co等各種基體分析需求 |
| M5000 N型 | 170-680nm | 雙光室配置，紫外分析能力強，可滿足Fe、Al、Cu、Zn、Ni、Ti、Mg、Co等各種基體分析需求 |
| M5000 S型 | 200-680nm | 單光室配置，可滿足Al、Cu、Zn、Mg等常規基體分析需求 |
光源
脈沖合成全數字光源（可編程脈沖全數字光源），高頻率可達1000Hz
預燃技術（HEPS）
優化設計的控制和功率電路，完善的激發保護功能
為不同分析目標提供火花、電弧或組合激發波形
頻率：（100～1000）Hz
放電電流：400 A
主要性能特點
M5000可采集全譜信息，測量近萬條譜線，分析范圍廣，可用的分析靈敏線更多，能夠測定金屬分析行業需要分析的元素。
與通道式光譜儀相比，M5000免除了選擇通道的煩惱，以更低的成本，獲取對更多元素的分析檢測能力。
M5000可智能選擇合適的靈敏線進行分析，科學地避開相鄰元素干擾、高含量自吸等因素的影響，獲取更準確的分析結果。
M5000的硬件設計支持全譜分析檢測，用戶可隨時在任意現場增加分析基體和元素，無需更改硬件便能擴展分析范圍。
M5000方便實用的擴展性能地滿足企業未來拓展業務范圍的需要，是企業靈活升級的得力助手。
利用全譜豐富的譜線信息，M5000可運用背景扣除、干擾扣除、漂移校正等算法，從而地監控儀器運行狀態，提高了分析的準確性和儀器的穩定性。
同時智能校正技術取代了傳統的描跡校正，儀器操作簡單，方便易用，校正效果。
